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光学镀膜理论
折射率不仅影响光路长度(以及相位)，也影响每个界面的反射特性。反射率通过菲涅尔公式定义，其反射率与界面两边材料的折射率之差息息相关。
必须考虑到的后一个参数是膜层的入射角。如果光的入射角改变，工艺品渐变加工供应，则每层的内角和光程长度都将受到影响;这将影响反射光束的相位变化量。使用非一般入射时，工艺品渐变加工厂家，S偏振光和P偏振光将从每个界面互相反射，这将导致两个偏振光具有不同的光学性能。偏振分光计就是基于这一原理设计的。
真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，工艺品渐变加工，一般称为干式镀膜技能。
真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。
物理气相堆积技能是指在真空条件下，使用各种物理办法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体外表上的办法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积办法制得，工艺品渐变加工成品，它使用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或受到离子轰击时物质外表原子的溅射等现象，完成物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
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